Geräteausstattung: Materialdeposition und -abtrag

Plasma-Ätzanlagen

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Oxford Instruments Plasmalab System 100:

RIE Plasma-Prozesssystem mit induktiv gekoppeltem Plasma ICP 180 zum reaktiven Ionenätzen
- Automatische Waferladevorrichtung; max. Wafergröße 100 mm
- Verfügbare Prozessgase: C4F8, SF6, O2, Ar, CHF3, CF4, He
- RF Leistung: max 300 W @ 13,56 MHz
- ICP Leistung: max 3000 W @ 13,56 MHz

Oxford Instruments Plasmalab 80plus (RIE):

RIE Plasma-Prozesssystem mit induktiv gekoppeltem Plasma ICP 65 zum reaktiven Ionenätzen
- Verfügbare Prozessgase: SiCl4, SF6, O2, Ar, Cl2, CH4, H2
- Wafergröße max. 50 mm (homogenes Plasma)
- RF Leistung: max 400 W @ 13,56 MHz
- ICP Leistung: max 300 W @ 13,56 MHz

Oxford Instruments Plasmalab 80plus (PECVD):

PECVD Plasma-Prozesssystem zur Deposition von isolierenden und halbleitenden Schichten
- Verfügbare Prozessgase: SiH4/Ar (2%/98%), NH3, N2O, N2, CF4
- Heizbarer Probentisch: max. 400 °C
- Wafergröße max. 50 mm (homogenes Plasma)
- RF Leistung max: 400 W @ 13,56 MHz

  

Aufdampfanlage für gerichtete Deposition

- Motorisierte Zwei-Achsen-Probenkippung
- 6-Tiegel Elektronenstrahlverdampfer
- Quartzwaage zur Schichtdickenkontrolle
- Probenheizung
- Turbomolekularpumpe
- Kaufmann-Ionenquelle für ionenunterstütztes Aufdampfen und Implantation

 

Beschichtungsanlage Varian 3119 R&D coater system

Herstellung dünner Schichten
- Elektronenstrahl-Verdampfer
- Tiegelverdampfer
- Glimmentladungsbetrieb
- Vakuumsystem: Vorpumpe, Öldiffusionspumpe

 

Sputteranlage

Sputterdeposition dünner Schichten
- Au- und Pt-Schichten
- Membranpumpe
- Zeitsteuerung

  

Spiegeltransportofen

Herstellung von ZnO-Nanodrähten durch Zn/O-Transport im Temperaturgradienten
- Quarzglasrohr
- max. Temperatur 1100 °C
- max. Probengröße 2 cm x 2 cm
- Betrieb unter Vakuum oder Inertgas (Ar)

  

Tensiometer K100SF (Firma Krüss)

Kontaktwinkelmessung an Einzelfasern zur Analyse der Benetzbarkeit
- Gewichtsmessung: bis 3 g, Auflösung 0.1 µg
- Probenbühnenposition: Bewegungsbereich 110 mm, Auflösung 0.1 µm, Geschwindigkeit 0.09 - 500 mm/min

  

Drop Shape Analyzer DSA25E (Firma Krüss)

Optische Messung von statischen und dynamischen Kontaktwinkeln auf Festkörperoberflächen (Methode des ruhenden Tropfen), Bestimmung von Festkörper-Oberflächenenergien und Oberflächenspannungen von Flüssigkeiten (Methode des hängenden Tropfen)
- Hubtisch (z-Achse)
- Softwaregesteuerte Doppel-Dosiereinheit
- Zoom-Objektiv, Kamera (Auflösung 656x492 px)

 

Gruppenleitung

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Prof. Dr. Jörg Lindner

Nanostrukturierung - Nanoanalytik - Photonische Materialien

Lehrstuhlinhaber

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